种植钉可以作为直接支抗或间接支抗，有研究表明临床上偏向于选择间接支抗以降低种植钉周围骨受到的负荷，从而降低种植钉脱落的风险。已有较多研究分析了种植钉作为直接支抗时的支抗丧失，但还没有对其作为间接支抗的系统研究。另外，meta分析表明种植钉作为直接支抗时，脱落率为0%-40.8%，总体失败率为13.5%，但其作为间接支抗，没有确切的数据。本研究的目的就在于分析种植钉作为间接支抗时的支抗丧失。
材料和方法：
样本为18个双颌前突患者（13-32岁，平均年龄17.3±4.6岁，14女,4男）。纳入标准：安氏I类双颌前突，拥挤度小于等于4mm，牙周健康，骨性I类，ANB角小于等于4°，上下切牙间角小于°。排除标准：中重度拥挤，口腔卫生不良，有吸烟史，有系统性疾病，内分泌失调，有正畸治疗史。
每个患者均用Roth托槽系统进行矫治，弓丝顺序为0.ss,0.ss,0.*0.ss,0.*0.ss。排齐整平阶段结束后植入种植钉（第一第二磨牙之间，与牙长轴呈60），种植钉与第一磨牙间用0.*0.ss辅弓相连，以提供间接支抗。种植钉植入三周后开始内收前牙，换0.*0.ss，镍钛弹簧挂在23间的游离牵引钩上。
图3:头侧标志点及平面。水平参考线与SN平面呈7°，垂直参考线为与水平参考线垂直且通过Pt点。
图4:上下颌重叠描迹图。ANS-PNS平面为上颌的参考平面，下颌平面为下颌的参考平面。MFOP：平均功能合平面。上颌牙齿的移动与平均功能合平面平行为基准。D点：联合部中心点。牙冠移动以近中接触点为基准，牙根移动以近中根尖点为基准。
结果：
平均治疗时间为29.78±6.81个月。切牙内收及磨牙近移的比例：上颌4.19，下颌4.67。覆盖范围为1-5mm，覆合为1-3.5mm，拥挤为0-4mm，Jarabak比例及下颌平面角稍增大。
表2显示了几个骨性参数的平均改变。
表3:磨牙位置发生了以下改变：上颌第一磨牙伸长0.20±1.10mm(U6MB-PP)，牙冠近中移动1.27±0.82mm(U6M-VRL)，牙根近中移动1.10±0.94mm(U6A-VRL)，角度变化为2.43°±3.12°(UM/PP)。下颌第一磨牙伸长0.57±0.54mm(L6MB-MP)，牙冠近中移动1.07±0.87mm(L6M-VRL)，牙根近中移动1.43±1.06mm(L6A-VRL)，角度变化为0.03°±4.28°(LM/MP)。
表4:切牙位置发生了以下改变：上颌中切牙压低2.43±1.31mm(U1E-PP)，牙冠远中移动5.47±1.65mm(U1E-VRL)，牙根远中移2.47±2.07mm(U1A-VRL)，角度变化为-9.60°±6.65°(U1/PP)。下颌第一磨牙压低2.67±1.08mm(L1E-MP)，牙冠远中移动5.00±1.06mm(L1E-VRL)，牙根远中移动2.10±2.41mm(L1A-VRL)，角度变化为-7.73°±4.87°(L1/MP)。
表5:重叠图中切牙及磨牙位置改变：上颌第一磨牙牙冠近中移动0.83±0.77mm(U6M1-U6M2)，牙根近中移动0.83±0.81mm(U6A1-U6A2)。下颌第一磨牙牙冠近中移动0.87±0.87mm(L6M1-L6M2)，牙根近中移动0.93±0.90mm(L6A1-L6A2)。上颌中切牙牙冠远中移动5.77±1.64mm(U1E1-U1E2)，牙根远中移动2.63±2.10mm(U1A1-U1A2)。下颌中切牙牙冠远中移动5.43±1.64mm(L1E1-L1E2)，牙根远中移动2.00±0.12mm(L1A1-L1A2)。
表6:平均支抗丧失的比较。
讨论：
已有研究表明，传统支抗支抗丧失量为1.60mm-2.55mm，支抗钉作为直接支抗，支抗丧失量为-0.83mm-1.3mm。支抗钉作为间接支抗时，支抗丧失的量与直接支抗（之前文献研究报道）几乎相等。当临床上不适用直接支抗时，间接支抗可以作为一个更好的选择。
赞赏
